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真空化学气相沉积炉

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真空化学气相沉积炉 GCVD-0510
 

产品概述:

化学气相沉积炉由沉积室、供气系统和排气系统组成,是以电阻加热或者感应加热的方式,在真空环境下,通入沉积气体,并在高温下产生裂解后沉积到工件上,使复合材料得到致密化处理的生产设备。

 

应用领域:碳碳制品、热解石墨、耐热物质涂层、粉末合成

 

功能特点:操作简单、维护方便、可制备多种类型涂层及复合材料、产品致密均匀,纯度和晶粒度高

 

性能参数:

 
 
可根据客户工艺和生产要求特殊定制
 

产品及应用